高级搜索

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

BF+2注入的多晶硅薄膜快速热退火后氟行为的研究

林成鲁 倪如山

林成鲁, 倪如山. BF+2注入的多晶硅薄膜快速热退火后氟行为的研究[J]. 电子与信息学报, 1989, 11(4): 434-438.
引用本文: 林成鲁, 倪如山. BF+2注入的多晶硅薄膜快速热退火后氟行为的研究[J]. 电子与信息学报, 1989, 11(4): 434-438.
Lin Chenglu Ni Rushan Zou Shichang. FLUORINE BEHAVIOUR IN BF+2 IMPLANTED POLYSILICON FILMS SUBJECTED TO RAPID THERMAL ANNEALING[J]. Journal of Electronics and Information Technology, 1989, 11(4): 434-438.
Citation: Lin Chenglu Ni Rushan Zou Shichang. FLUORINE BEHAVIOUR IN BF+2 IMPLANTED POLYSILICON FILMS SUBJECTED TO RAPID THERMAL ANNEALING[J]. Journal of Electronics and Information Technology, 1989, 11(4): 434-438.

BF+2注入的多晶硅薄膜快速热退火后氟行为的研究

FLUORINE BEHAVIOUR IN BF+2 IMPLANTED POLYSILICON FILMS SUBJECTED TO RAPID THERMAL ANNEALING

  • 计量
    • 文章访问数:  1636
    • HTML全文浏览量:  40
    • PDF下载量:  530
    • 被引次数: 0
    出版历程
    • 收稿日期:  1987-05-18
    • 修回日期:  1987-08-31
    • 刊出日期:  1989-07-19

    目录

      /

      返回文章
      返回

      官方微信,欢迎关注