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氧作用下浸渍钡钨阴极中钙的强化表面扩散

马京昇 张永康 胡汉泉

引用本文: 马京昇, 张永康, 胡汉泉. 氧作用下浸渍钡钨阴极中钙的强化表面扩散[J]. 电子与信息学报, 1989, 11(2): 183-190. shu
Citation:  Ma Jingshen, Zhang Yongkang, Han C. Hu. CALCIUM SURFACE DIFFUSION IN IMPREGNATED CATHODE ENHANCED BY OXYGEN[J]. Journal of Electronics and Information Technology, 1989, 11(2): 183-190. shu

氧作用下浸渍钡钨阴极中钙的强化表面扩散

摘要: 由于探测技术上的困难,至今对铝酸钡钙扩散阴极表面钙的研究极少。本文利用低压氧锈导下Ca向阴极表面的强化扩散,并借助俄歇电子能谱仪探索了Ca的行为和作用。主要结果是:(1)相当部分Ca以金属态形式存在于钨孔隙中活性物质的近表层区;(2)钙向表面扩散的数量和速度与阴极温度、氧的暴露量成正比,它是一种界面反应驱动下的强化扩散,其激活能约为1.34eV;(3)氧作用下阴极表面氧化钙的增加是导致阴极发射衰减的重要原因,而恢复中毒的再激活机制之一,则是高温下表面钙的蒸发逸离过程。

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文章相关
  • 收稿日期:  1987-05-18
  • 录用日期:  1988-09-01
  • 刊出日期:  1989-03-19
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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